課程資訊
課程名稱
薄膜技術與表面分析
Thin-film Technology and Surface 
開課學期
104-2 
授課對象
學程  光機電系統學程  
授課教師
陳賢燁 
課號
ChemE5030 
課程識別碼
524 U1800 
班次
 
學分
全/半年
半年 
必/選修
選修 
上課時間
星期四8,9,10(15:30~18:20) 
上課地點
共204 
備註
光機電學程進階課程與吳乃立、吳紀聖、何國川、戴子安、王勝仕、廖英志、康敦彥合開
限學士班四年級以上
總人數上限:50人 
Ceiba 課程網頁
http://ceiba.ntu.edu.tw/1042ChemE5030_ 
課程簡介影片
 
核心能力關聯
核心能力與課程規劃關聯圖
課程大綱
為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
課程概述

1. 課程簡介與緒論 (Introduction) (陳賢燁)
2. X射線光電子光譜(XPS)與螺旋電子光譜(Auger)進行表面分析:(吳紀聖)
2.1表面分析簡介:
表面的定義;表面敏度;儀器計測法。
2.2 X射線光電子光譜學:
X射線誘導光電子;結合能與化學轉移;光譜特徵。
2.3 螺旋電子光譜學:
電子之螺旋程序;深度剖面解析
2.4 實驗說明
3. 掃描式電子顯微鏡(SEM)分析:(TBD)
3.1 緒論
3.2 電子顯微鏡的分類及其功能
3.3 電子束與物質之作用
3.4 電子顯微鏡、光學顯微鏡及X光繞射儀之特性與功能比較
3.5 電子顯微鏡之機台構造
3.6電子顯微鏡照片之分析
3.7 實驗說明
4. 薄膜之製作技術一 (Thin film formation methods):(廖英志、陳賢燁、康敦彥)
4.1溶膠-凝膠法:
溶膠-凝膠拉伸法及旋轉塗佈法的原理;溶膠-凝膠法的各項技術;溶膠-凝膠法的各項優點
4.2化學蒸鍍法:
反應種類;化學蒸鍍法的熱力學;氣體傳輸;薄膜成長機制
4.3噴墨法:
反應種類;噴墨法的製程控制;圖案化薄膜製備以及參數分析
4.4電漿及離子光束法
反應濺鍍過程;各種物理蒸鍍法的結合
4.5實驗說明

5. 原子力顯微儀(AFM) (戴子安)
5.1 穿隧效應
5.2 穿隧效應之應用(掃描式穿隧顯微鏡學)
5.3 原子力顯微鏡(AFM)
基本概念介紹;定力操作模式與定高操作模式;儀器計測法(懸臂樑式探測法與壓電陶瓷);接觸模式(Contact mode)與流動槽;輕叩模式(Tapping mode)。
5.4側力顯微鏡學(LFM)
5.5相差成像(phase imaging)
5.6實驗說明
6. X光繞射分析(XRD): (吳乃立)
6.1 X光繞射原理 :
6.2 X光繞射晶相分析
6.3 X光繞射晶向與晶粒尺寸分析
6.4研究範例
6.5實驗說明
7. 表面電漿共振 (SPR): (王勝仕)
7.1簡介
表面電漿共振之原理、表面電漿共
振之配置
7.2生物分子間之交互作用
基本定義及原理介紹、結合常數之性質與決定
7.3應用表面電漿共振於生物分子間之交互作用
7.4表面電漿共振數據分析
7.5研究相關範例
7.6 實驗說明

8. 同步輻射簡介 (詹丁山 博士)

9. 期中考 4/28/2015
10. X光繞射薄膜晶相分析實驗
11. 薄膜之製作實驗
12. 原子力顯微儀
13. 以XPS與Auger進行表面分析實驗
14. 掃描式電子顯微鏡(SEM)分析實驗
15. 表面電漿共振實驗
16. 期末考 6/23/2015
 

課程目標
待補 
課程要求
待補 
預期每週課後學習時數
 
Office Hours
 
指定閱讀
待補 
參考書目
待補 
評量方式
(僅供參考)
   
課程進度
週次
日期
單元主題
第1週
2/25  陳賢燁-Intro&氣相薄膜製備及分析技術 
第2週
3/03  戴子安-AFM分析原理及應用 
第3週
3/10  詹丁山-同步輻射分析技術 
第4週
3/17  吳紀聖-XPS 
第5週
3/24  康敦彥-有機光電薄膜之製備與分析 
第6週
3/31  廖英志- FTIR分析應用與圖樣化薄膜製備 
第7週
4/07  吳乃立-X光繞射分析 
第8週
4/14  實習-XPS 
第9週
4/21  期中考 
第10週
4/28  業界專家- EM 
第11週
5/05  王勝仕-SPR分析原理及應用 
第12週
5/12  實習-AFM 
第13週
5/19  實習-SEM 
第14週
5/26  實習-SPR 
第15週
6/02  實習-XRD 
第16週
6/09  端午節放假 
第17週
6/16  實習-FTIR 
第18週
6/23  期末考